全自动涂胶显影机- 芯米（厦门）半导体设备有限公司

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前道制程设备

넳 넲

全自动涂胶显影机 XMTA-800A

产品参数

基片尺寸

ψ50mm～ψ200mm
Cassette 晶舟

2-4个晶舟
Coater Unit 涂胶单元

1、PR类型：正胶/ 负胶；2、光刻胶喷头 2 ~ 4 个； 3、EBR ( Edge Bead Remover )； 4、马达旋转速度 Max. 6,000rpm； 5、高精度定量泵浦≦0.1cc ( 100cp以下)
Robot Arm 机械手臂

3轴; X1, X2, X3
Hot Plate热盘单元

溫度50℃-180℃
Cooling Plate冷盘单元

溫度18-28℃
机台尺寸

D(1200+2410)× W1700 × H2300 (mm)
显影机基片尺寸

ψ50mm～ψ300mm
Developer 显影单元

1、可应用喷头 Spray, Stream, E2 , H ； 2、马达旋转速度 Max. 5,000rpm