【喜报】芯米PRE-WET（光阻过滤器预湿系统）成功出货！
近日，芯米（厦门）半导体设备有限公司自主研发的PR Filter Pre-Wet Station光阻过滤器预湿系统顺利完成两台设备出货，正式交付H客户。这是芯米在黄光制程配套设备领域持续深耕的又一重要成果。
发货现场
芯米独家专利技术，广泛应用国际大厂
什么是光阻过滤器预湿系统？
在半导体芯片制造的黄光制程（光刻工艺）中，光阻（Photoresist）通过涂胶显影设备（Coater & Developer）的光阻供应单元输送至晶圆表面。而光阻过滤器是这一环节中保障光阻洁净度的关键部件。
未经预湿的干燥过滤器，其疏水性滤膜在首次接触光阻时会大量吸附昂贵的光刻胶——传统方式下，每更换一次过滤器需要通过500cc到1000cc的光阻液才能完成润湿。这不仅造成巨大的物料浪费，还延长了机台停机时间，甚至可能引入气泡和颗粒缺陷。
芯米PRE-WET光阻过滤器预湿系统正是为解决这一痛点而生。它在新过滤器安装到主设备之前，利用专用溶剂对其进行离线预湿处理，使过滤器安装后仅需100cc到150cc的光阻即可进入正常工作状态——光阻消耗量降低80%以上。
八大核心优势
全面赋能产线
1
降低整机拥有成本（COO）
通过大幅减少每次过滤器更换时的光阻浪费，显著降低物料消耗成本。同时，预湿处理后的过滤器运行更稳定，减少了因过滤器问题导致的工艺异常和返工成本
2
自动化预湿作业，提升生产效率
芯米PRE-WET实现过滤器预湿全流程自动化控制，操作人员无需手动干预，大幅缩短过滤器更换的准备时间，让产线流转更加高效。
3
药液循环功能，减少化学品消耗量
系统内置药液循环回路，对预湿用溶剂进行过滤和循环利用。一次装填即可完成多个过滤器的预湿作业，化学品利用率大幅提升，废液排放显著减少。
4
提升生产机台稼动率
传统方式下，过滤器更换需要在涂胶显影设备本机上进行，占用宝贵的生产时间。芯米PRE-WET采用离线预湿模式，过滤器在设备外完成预处理后直接更换——主设备零停机等待，机台稼动率全面提升。
5
改善颗粒良率表现
预湿过程中，专用溶剂对过滤器内部进行充分冲刷与清洗，有效去除过滤器内残留的杂质与颗粒。同时，充分润湿的滤膜可避免气泡产生，从源头减少光阻涂布缺陷，切实改善晶圆颗粒良率。
6
兼容多种药液过滤器，批量预湿作业
7
全流程一体化配套服务
芯米不仅提供设备本身，更为客户提供从安装调试、工艺验证到售后维护的全流程一体化服务。源于台湾团队三十余年黄光制程经验，结合日本技术、台湾机构与国内研发制造能力，芯米致力于成为客户最可靠的合作伙伴。
8
足额备件供应，运维无忧
芯米建有完善的备件供应体系，常用备件足额储备、快速响应，确保设备在任何情况下都能得到及时维护，最大限度保障产线连续运转。
与涂胶显影/光刻制程的深度关联
关于芯米半导体
芯米（厦门）半导体设备有限公司成立于2019年，是厦门市领军型双百人才落地企业、国家高新技术企业。公司专注于半导体晶圆制造黄光制程涂胶、显影及清洗设备的研发、制造与销售，核心部件均实现自主研发，整机国产化率超过90%。目前，芯米全自动涂胶显影设备已全面覆盖2-12英寸先进制程，广泛应用于晶圆制造与先进封装产线。
