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全自动涂胶显影机
2C2D全自动涂胶显影机 XM-300系列
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PRE-WET光阻过滤器预湿系统
专用于半导体黄光制程,在光阻过滤器安装至涂胶显影设备前进行离线预湿处理,大幅降低光刻胶损耗,减少particle良率影响,提升机台稼动率 。
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